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世界特許制度が|「斬新さ」の審査の基本原則(アジア篇)

公開日:2025-01-28 閲覧數(shù):329

発明には「新規(guī)性」が必要であり、これはほとんどの國の特許制度において基本的な基本です。新しい技術(shù)であることを直接証明するのは難しいことが多いので、各國の特許制度は、新しい発明が既存の技術(shù)の一部にならないという方向にシフトしています。この「不構(gòu)成」認(rèn)定では、有効な先行技術(shù)の認(rèn)定や出願の解釈に加えて、「同一か否か」の比較が最も重要になります。


「従來技術(shù)」にも少し觸れましたので、今回は日本について、新規(guī)性認(rèn)定の原則について簡単にご紹介します。


01日本の新規(guī)性の法的基盤


日本における新規(guī)性の定義は、主に第29條に基づいています。この法案は、実用性(「工業(yè)的に利用可能である」)、新規(guī)性(既存の技術(shù)的狀況を列挙したもの)、創(chuàng)造性(既存の技術(shù)に基づいて容易に実現(xiàn)できる非特許)を特許付與の條件として提示していると考えられています。


具體的な新規(guī)性の審査となると,日本の特許審査ガイドラインでは「相違點がある場合には,審査員は特許請求の範(fàn)囲が限定する発明に新規(guī)性があると判斷する。相違點がない場合、審査員は特許請求の範(fàn)囲で限定される発明は新規(guī)性がないと判斷します」。


02明文化されていない、実務(wù)でも「質(zhì)的同一」による新規(guī)性の破壊


日本では「実質(zhì)同一」という原則は特許法の條文には明記されていませんが、実際の日本の特許実務(wù)では、実質(zhì)同一である「実質(zhì)同一」にも注目しています。一方では、公知の常識や慣用技術(shù)に基づいて付加、除去、変換し、実質(zhì)的に同一であるとする一方で、中國の審査ガイドラインが強(qiáng)調(diào)している「同一の技術(shù)分野で、同一の技術(shù)問題を解決し、同一の効果が期待される」という點も考慮されています。


例えば、特許権裁判所判例平成29年(単行ケ)第10167號「積層膜案」では、特許権者は、印刷層は、特許フィルムと比較書類には似た原料を使用しているが、厚さの設(shè)計が異なり、薬剤耐性、吸水率などの効果があると主張しています。しかし裁判所は、厚さの違いは特定成形性、機(jī)械的強(qiáng)度を得るための「具體的手段のわずかな差」にすぎず、「他に異なる新たな技術(shù)的効果はない」として、該當(dāng)する請求項は比較文書と同一であると判斷しました。


日本の知的財産裁判所である「知の財産高等裁判所」は、日本の知的財産局による行政訴訟の一審と、技術(shù)的に複雑な事件の二審を管轄しています。日本では、すべての技術(shù)複雑類の侵害事件の一審は東京と大阪の法廷が集中的に管轄しています。


この「同一」も、表現(xiàn)形式とは関係ありません。例えば、実際に特許が出願されている仕組みであれば、新規(guī)性はないと判斷されます。(最三小判昭和31?4?24裁判集民事21號853ページ參照)


他にも「単獨比較」(『審査ガイド』第III部第2章第1節(jié)2)、下位概念の公開が上位概念の新規(guī)性に影響を與える(『審査ガイド』第III部第2章第3節(jié)3?2)などの原則は中國と一致しています。


03日本の同一発明者の前後2件の同一出願は、出願に抵觸しません


「抵觸する出願」は「拡大先願」と呼ばれ、「準(zhǔn)公知」「公知の擬制」とも呼ばれ、主に特許法第29條第2項に記載されています。


昭和三十四年版特許法第三十九條では、後申書は既に公開されている先申書との対比で、內(nèi)容が異なるだけで特許が取得され、二次許諾の可能性があるとされ、昭和四十五年に改正されました(特許庁「特許法」の注釈本を參照)。特許法第39條)との比較の範(fàn)囲と同時に、第29條第1項に規(guī)定されている「公知」の定義の範(fàn)囲を拡大したもので、新たな「公知」の範(fàn)囲を定めたことになります。


特に、上記の歴史的な理由から、日本の「出願抵觸」條項には、同一出願人または同一発明者が含まれていません?!竿弧工趣?、発明者が全く同じ、または出願人が全く同じことを指します。特許庁は、発明者が同一、出願者が同一である場合には、拡大先願ではなく、新規(guī)性がない場合には、第39條先願の先願制度に基づいて卻下します。卻下の結(jié)果は同じですが、根拠が違います。中國では例外はありません。


日本の特許の観點では、上記二十九條第二項は、公知、先申制度、新規(guī)性に関するものであり、第二十九條第一項の新規(guī)性條項、第三十九條の新規(guī)性條項と相補(bǔ)的なものであることがわかる。これを簡単に比較してみます。


04日本の特許審査の流れ


発明特許、(ライセンス+3年間の費用)約18萬円、9000元に相當(dāng)します。実用新案、(ライセンス+3年費用)約2萬円、1000人民元に相當(dāng)します;デザインは、41500萬円からで、隠しデザインの有無や年式などにもよります。

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